Obducat

OBDUCAT FÅR SITT ANDRA NIL-PATENT BEVILJAT I KINA

Pressmeddelande   •   Okt 04, 2005 09:33 CEST

Obducat har fått sitt andra NIL-patent beviljat i Kina. Patentet avser en viktig funktionalitet inom nanoimprintlitografitekniken (NIL), s.k. parallellisering.

Patentet fokuserar på s.k. parallellisering, vilken möjliggör ett högkvalitativt resultat från nanoimprintlitografiprocessen där mönster överförs från en s.k. stamper till ett substrat. Funktionen möjliggör en jämn tryckfördelning över en större yta vilket leder till en totalt sett högre kostnadseffektivitet i produktionssammanhang.

Obducats VD Patrik Lundström kommenterar:

" Vi fick nyligen vårt första NIL-patent beviljat i Kina och att vi nu får ytterligare ett för vår verksamhet centralt patent godkänt i Kina gör att vi stärker vår position ytterligare. Detta passar väl med vårt långsiktiga intresse för den Kinesiska marknaden."

För ytterligare information kontakta:

Patrik Lundström, VD, 040 - 36 21 00 eller 0703 - 27 37 38

Obducat AB utvecklar och levererar teknologier, produkter och processer för produktion och replikering av avancerade mikro- och nanostrukturer. Obducats tjänster och produkter riktar sig i första hand till expansiva företag inom datalagrings-, halvledar-, kretskorts- och sensorindustrierna. Obducats teknologier omfattar elektronstråleteknik och nanoimprintteknik. Obducat finns i Sverige och Storbritannien och har huvudkontor i Malmö. Aktien är noterad på NGM-listan. Läs mer på www.obducat.com

Obducat utvecklar och säljer teknologier och produkter för framställning av avancerade mikro- och nanostrukturer till elektronik- och halvledarindustrin.