Tiedote -
Picosun ennustaa vuodelle 2011 ALD:n teollista läpimurtoa
“Vuosi 2010 on ollut ALD:lle niin tieteellisesti kuin menetelmänä erinomainen,” sanoo Picosunin hallituksen puheenjohtaja Kustaa Poutiainen. ”Olemme koko kuluneen vuoden ajan nähneet selviä ja kiihtyvästi vakuuttavia todisteita uusista ALD:n hyödyntämisestä kiinnostuneista asiakasryhmistä. Uudet teollisuudenalat ovat innostuneita oppimaan Picosunin globaalista ALD-osaamisestaan ammentamista tulevaisuuden tuotannon visioista.”
“Picosun on erittäin tyytyväinen, koska ALD:n suomalainen keksijä, tohtori Tuomo Suntola näyttelee Picosunin hallituksen kautta edelleen keskeistä osaa tekniikan kehityksessä. Jos joku tekisi nykyaikaiselle ALD:lle isyystestin, Tuomo Suntolan DNA hehkuisi jokaisessa näytteessä. Hän on aktiivisesti mukana Picosunin väsymättömässä työssä todentaa ALD:n jo pitkään osoittama lupaus, ja muuttaa se tärkeitä tulevaisuuden portteja avaavaksi arkiseksi teollisen tuotannon tekniikaksi.”
ALD on jo nykyisellään suuren mittakaavan mukaisessa käytössä puolijohdeteollisuudessa, ja on menestyksellä esitellyt itsensä niin elektroniikkateollisuudessa kuin aurinkoenergiateollisuudessakin. Hiljakkoin Picosun liittyi osaksi ensirivin eurooppalaisia tiedeinstituutioita ja teollisuusyrityksiä, jotka yhdessä luovat puhtaampia menetelmiä kemiallisen ja lääketeollisuuden tarpeisiin. ”Cleantech, eli puhtaat tekniikat, on selkeästi yksi vuoden 2011 trendeistä jotka liittävät ALD:n tärkeäksi osaksi tulevaisuuden teknologioita,” Poutiainen painottaa.
Picosunin asema ALD:n teollisten sovellusten kärjessä merkitsee jatkoa yrityksen poikkeukselliselle kasvu-uralle. Picosunin SUNALE™ ALD -järjestelmien kysynnän pysyvä kasvu ohjasi yrityksen hallituksen nostamaan tilikauden 2010-2011 liikevaihtoennustetta merkittävästi kokouksessaan joulukuussa (Picosunin tilikausi on toukokuusta huhtikuuhun).
”Se seikka, että Picosunin yrityskoko näyttää muutaman vuoden kuluessa kasvavan jopa viisikymmenkertaiseksi aiempaan verrattuna alleviivaa henkilöstömme ja yrityksen hallituksen tinkimätöntä päättäväisyyttä ja heidän poikkeuksellista ominaislaatuaan,” Kustaa Poutiainen sanoo. "Jokainen taso, ja jokainen henkilö yrityksessä pyrkii olemaan alansa ja tehtävänsä paras, jotta Picosun ja sen tuotteet olisivat asiakkaille maailman parhaita nyt ja tulevaisuudessa."
Suomalainen maailmanlaajuisesti operoiva huippuluokan atomikerroskasvatusjärjestelmiä valmistava Picosun Oy kehittää ja valmistaa ALD -reaktoreita mikro- ja nanoteknologian sovelluksiin. Picosunilla on maailmanlaajuinen myynti- ja huoltoverkko. Picosunin pääkonttori sijaitsee Espoon Otaniemessä, tuotanto Kirkkonummella, ja yrityksen Pohjois-Amerikan päämaja Detroitissa, Michiganin osavaltiossa USA:ssa. Picosunin SUNALE™ ALD -laitteistoja on myyty johtaviin yliopistoihin, sekä yritysten tuotekehitys- ja tuotantotarkoituksiin eri puolille Eurooppaa, Pohjois-Amerikkaa ja Aasiaa. Picosun on osa Stephen Industries Inc Oy -konsernia.
Suomessa on maailman pisimmät perinteet ALD -reaktoreitten suunnittelussa ja valmistuksessa. Tekniikan tohtori Tuomo Suntola kehitti ALD -menetelmän vuonna 1974. Nykyään hän toimii Picosun Oy:n hallituksen jäsenenä. Sven Lindfors, Picosunin tekninen johtaja ja yksi yrityksen perustajista, on suunnitellut ja toteuttanut ALD -reaktoreita vuodesta 1975 lähtien.
Lisätietoa:
Picosun Oy, Juhana Kostamo, toimitusjohtaja
Tietotie 3, FI-02150 Espoo
Puh. +358 50 321 1955
Fax. +358 20 722 7012;
e-mail: info (at) picosun.com
Aiheet
- Teollisuus, valmistus
Kategoriat
- ald
- atomic layer deposition
- atomikerroskasvatus
- elektroniikkateollisuus
- juhana kostamo
- nanoteknologia
- picosun
- teollisuus
- kustaa poutiainen
- tuomo suntola
- ohutkalvo
- espoo
- detroit
Picosun Oy is a Finland-based global manufacturer of state-of-the-art ALD systems for micro- and nanotechnology applications. Picosun represents continuity to over three decades of ALD reactor manufacturing in Finland (ALD = Atomic Layer Deposition). Picosun is based in Espoo, Finland and has its US headquarters in Detroit, Michigan. SUNALE™ ALD process tools are installed in various universities, research institutes and companies across four continents. Picosun Oy is a part of Stephen Industries Inc Oy.
ALD is a surface controlled layer-by-layer process based on self-terminating gas-solid reactions. It is uniquely suited to produce high-performance gas barrier coatings on various materials as it allows preparation of dense and pinhole-free inorganic films that are uniform in thickness even deep inside pores, trenches and cavities of various dimensions. The other advantages of the ALD include low impurity content and mild deposition conditions in terms of temperature and pressure. There is a wide range of ALD-grown materials and commercial applications, from catalysts to electroluminescent displays in microelectronics and beyond. In addition to forming efficient barriers certain ALD-grown materials can also act as conductive enablers.
ALD was invented in 1974 by Dr. Tuomo Suntola, today serving as Member of the Board of Directors of Picosun. Picosun founder and CTO Sven Lindfors has been designing ALD systems continuosly since 1975.
