Tiedote -
Picosun kehittää ALD-avusteisia prosesseja kemian- ja lääketeollisuuden aloilla
Espoo, 10. marraskuuta, 2010 - Suomalainen, maailmanlaajuisesti toimiva korkealaatuisten atomikerroskasvatusjärjestelmien (ALD = Atomic Layer Deposition) suunnittelija ja valmistaja Picosun Oy on yksi seitsemästä vuosina 2010-2014 toteutettavan Polycat –nimisen, Euroopan unionin rahoittaman merkittävän tutkimushankkeen teollisesta yhteistyökumppanista. Polycatin tavoitteena on vähentää kemian- ja lääketeollisuuden ekologista jalanjälkeä mm. kehittämällä saasteettomia valmistusmenetelmiä ja -prosesseja. EU on myöntänyt seitsemännestä eurooppalaisesta tutkimusohjelmastaan seitsemän miljoonaa euroa kymmenen miljoonan euron budjetilla toteutettavaan Polycatiin.
Picosunin teolliset yhteistyökumppanit ovat Thales Nanoteknologia Unkarista, Ehrfeld Mikrotechnik, Bayer Technology Services ja Evonik Degussa, kaikki kolme Saksasta, Sanofi-Aventis Ranskasta, sekä saksalaisen Süd -Chemien ja eestiläisen Alvigon Ukrainassa ja Venäjällä toimiva yhteisyritys. Polycatin tieteellisiä yhteistyökumppaneita ovat maineikkaat yliopistot ja tutkimuslaitokset Suomessa, Ranskassa, Saksassa, Kreikassa, Italiassa, Hollannissa, Venäjällä, Sveitsissä ja Britanniassa. Polycat -projektia koordinoi saksalainen Institut für Mikrotechnik Mainz.
Polycat -hankkeessa Picosun vastaa katalyyttien valmistuksen ALD -avusteisesta prosessikehitystyöstä, prosessien optimoinnista ja niiden skaalaamisesta teolliseen tuotantoon.
Katalyysi on osa useimpien teollisesti merkittävien kemikaalien tuotantoprosessia. Sama koskee useimpia biokemiallisia prosesseja. Arvioiden mukaan katalyytit ovat jossakin vaiheessa mukana 90 prosentissa kaikkien kaupallisesti tuotettujen kemiallisten tuotteiden valmistusprosessia. Vuonna 2005 katalyyttien avulla syntyi tuotteita noin 900 miljardin U.S. dollarin arvosta maailmanlaajuisesti.
"ALD -tekniikan täysiä mahdollisuuksia katalyyttien valmistuksessa ei ole vielä tunnistettu. Polycatin kautta Picosunilla on tilaisuus kehittää kokonaan uusi tapa luoda ja hyödyntää katalyyttejä, ja esitellä ALD -avusteisia tuotantotekniikoita kemian- ja lääketeollisuuden käyttöön," sanoo Picosunin toimitusjohtaja Juhana Kostamo.
Polycatilla on kunnianhimoiset tavoitteet. Kahden avaininnovaation avulla se pyrkii parantamaan eurooppalaisen kemianteollisuuden kilpailukykyä ja kestävyyttä. Ensimmäinen innovaatioista on kokonainen sarja uusia polymeerituettuja nanohiukkaskatalyytteja, sekä niiden käyttö mikrovirtauksiin perustuvissa kemiallisissa reaktoreissa. Toinen uusi avaus on investointikustannuksiltaan edullinen modulirakenteinen tuotantolaitos (n.s. ”tulevaisuuden tehdas”). Huipputehokkaiden heterogeenisesti katalysoitujen hienokemiallisten prosessien kehitys tuottaa useita parannuksia. Erityisen huomionarvoista on liuottimien käytön vähentäminen ja eräiden prosessivaiheiden määrän pienentäminen.
Polycat pyrkii myös parantamaan prosessien tuottoa, supistamaan tuotekustannuksia vähintään kymmenellä prosentilla ja lyhentämään uusien kemiallisten prosessien kokeiluvaihetta jopa kolmanneksella nykyisestä. Tärkeä tavoite on vähentää jätteiden käsittelyä 40 prosentilla estämällä metallien huuhtoutuminen tuotteisiin osana tuotantoprosessia. Prosessinohjaus on keskeinen elementti parhaan suorituskyvyn varmistamisessa. Siksi uudet kemialliset reaktorit on rakennettava osaksi koko tuotantolaitoskonseptin uudistamista.
Karkea arvio Polycatin taloudellisista kokonaisvaikutuksista ennustaa hankkeen mikrotaloudellisen vaikutuksen 5-10 vuoden aikajanalla 25-100 miljoonan euron haarukkaan. Epäsuoran, teknologiasiirron tuottaman makrotaloudellisen vaikutuksen arvioidaan nousevan 100-500 miljoonaan euroon 10-15 vuoden aikajanalla.
Suomalainen maailmanlaajuisesti operoiva huippuluokan atomikerroskasvatusjärjestelmiä valmistava Picosun Oy kehittää ja valmistaa ALD -reaktoreita mikro- ja nanoteknologian sovelluksiin. Picosunilla on maailmanlaajuinen myynti- ja huoltoverkko. Picosunin pääkonttori sijaitsee Espoon Otaniemessä, tuotanto Kirkkonummella, ja yrityksen Pohjois-Amerikan päämaja Detroitissa, Michiganin osavaltiossa USA:ssa. Picosunin SUNALE™ ALD -laitteistoja on myyty johtaviin yliopistoihin, sekä yritysten tuotekehitys- ja tuotantotarkoituksiin eri puolille Eurooppaa, Pohjois-Amerikkaa ja Aasiaa. Picosun on osa Stephen Industries Inc Oy -konsernia.
Suomessa on maailman pisimmät perinteet ALD -reaktoreitten suunnittelussa ja valmistuksessa. Tekniikan tohtori Tuomo Suntola kehitti ALD -menetelmän vuonna 1974. Nykyään hän toimii Picosun Oy:n hallituksen jäsenenä. Sven Lindfors, Picosunin tekninen johtaja ja yksi yrityksen perustajista, on suunnitellut ja toteuttanut ALD -reaktoreita vuodesta 1975 lähtien.
Lisätietoa:
Picosun Oy, Juhana Kostamo, toimitusjohtaja
Tietotie 3, FI-02150 Espoo
Puh. +358 50 321 1955
Fax. +358 20 722 7012;
e-mail: info (at) picosun.com
www.picosun.com
Aiheet
- Terveys, sairaanhoito, lääketiede
Kategoriat
- ald
- atomic layer deposition
- atomikerroskasvatus
- detroit
- elektroniikkateollisuus
- espoo
- juhana kostamo
- nanoteknologia
- picosun
- picosun oy
- polycat
- nanotechnolgy
- unkari
- saksa
- ranska
- ukraina
- viro
- eesti
- suomi
- kreikka
- italia
- alankomaat
- hollanti
- venäjä
- sveitsi
- yhdistyneet kuningaskunnat
- biokemia
- katalyytit
- tuotantotalous
- tuotantolaitos
- lääketeollisuus
- lääkkeet
Picosun Oy is a Finland-based global manufacturer of state-of-the-art ALD systems for micro- and nanotechnology applications. Picosun represents continuity to over three decades of ALD reactor manufacturing in Finland (ALD = Atomic Layer Deposition). Picosun is based in Espoo, Finland and has its US headquarters in Detroit, Michigan. SUNALE™ ALD process tools are installed in various universities, research institutes and companies across four continents. Picosun Oy is a part of Stephen Industries Inc Oy.
ALD is a surface controlled layer-by-layer process based on self-terminating gas-solid reactions. It is uniquely suited to produce high-performance gas barrier coatings on various materials as it allows preparation of dense and pinhole-free inorganic films that are uniform in thickness even deep inside pores, trenches and cavities of various dimensions. The other advantages of the ALD include low impurity content and mild deposition conditions in terms of temperature and pressure. There is a wide range of ALD-grown materials and commercial applications, from catalysts to electroluminescent displays in microelectronics and beyond. In addition to forming efficient barriers certain ALD-grown materials can also act as conductive enablers.
ALD was invented in 1974 by Dr. Tuomo Suntola, today serving as Member of the Board of Directors of Picosun. Picosun founder and CTO Sven Lindfors has been designing ALD systems continuosly since 1975.
